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小型滑動PECVD管式爐系統(tǒng)
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滑動式雙溫區(qū)PECVD系統(tǒng)
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1200℃等離子增強HPCVD回轉(zhuǎn)爐系統(tǒng)
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1100℃PE/HPCVD 旋轉(zhuǎn)管式爐 (配原位蒸發(fā)器, 4通道MFC和真空泵)
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2L三軸行星真空 攪拌機 (配真空泵和水冷機)
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80℃ 250mm輥寬加熱型電動軋機(可選壓力可顯示型)
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200℃電動變速熱軋機 (Ar氣體兼容,96*100mm)
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宇電儀表控制軟件
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自動粉料分配器
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實驗型漿料處理機
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雙爐體滑動PECVD系統(tǒng)&循環(huán)手套箱
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200℃壓力可控型電動加熱輥軋機(可選壓力可顯示型)
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等離子磁控濺射鍍膜儀系列
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110℃雙溫雙控 加熱型軋機 (Ar環(huán)境下兼容,200*250mm)
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16通道氣氛管式搖擺爐
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1200℃三溫區(qū)九通道質(zhì)子混氣高真空管式CVD爐 (可選50-100mm石英管,真空1E-4 torr)
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1200℃三溫區(qū)四通道質(zhì)子混氣高真空管式CVD爐 (可選50-100mm石英管,真空1E-4 torr)
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帶有預(yù)熱系統(tǒng)的滑動PECVD
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1100℃真空箱式爐 (配7.6L腔室,直通法蘭)
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200℃數(shù)字壓力顯示熱軋機 (Ar氣體兼容,96*220mm)
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1200℃三通道混氣高真空管式CVD爐 (可選50-100mm石英管,真空1E-4 torr)
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真空加熱流延涂布機(250℃,250Wx400Lmm,配涂布刮刀)
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旋轉(zhuǎn)CVD管式爐系統(tǒng)
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1200℃三溫區(qū) 旋轉(zhuǎn)爐 (125mm內(nèi)徑)