設(shè)備名稱 | 1100℃PE/HPCVD旋轉(zhuǎn)管式爐(配原位蒸發(fā)器,4通道MFC和真空泵)—OTF-1200X-S-II-4CV-PE (2019.12.23—科晶實驗室審核) |
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產(chǎn)品提示 | 1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實驗室邀請?zhí)崾?/span> 4、配件妥善保管提示 |
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產(chǎn)品特點 | ? 爐體可在0 ~ 30°內(nèi)傾斜有利于粉末樣品的裝入和取出; ? 射頻電源可實現(xiàn)等離子增強從而顯著降低實驗溫度; ? 齒輪驅(qū)動管式爐旋轉(zhuǎn)可有效地提高復(fù)合粉末熱處理的均勻性; ? 4通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)可以對氣體的輸送進行精確的調(diào)控; ? 集成在前端的帶鎢絲加熱的坩堝舟可以對前驅(qū)體進行蒸發(fā)用于后續(xù)的混合物理化學(xué)氣相沉積階段。 |
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相關(guān)視頻 | 操作視頻 |
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加熱爐參數(shù) | ? 最高溫度:1100oC(<30min);連續(xù)工作溫度:< 1000℃; ? 兩個PID溫度控制器以及50段可編程溫控系統(tǒng),控溫精度:±1℃; ? 輸入功率:110V,單相,功率:1.5KW; ? 回轉(zhuǎn)爐旋轉(zhuǎn)速度:0-5 rpm; ? 爐體開啟式設(shè)計,以達到對樣品快速降溫,方便更換爐管。 更多參數(shù)請聯(lián)系科晶銷售部 |
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蒸發(fā)舟參數(shù) | ? 0.7mL氧化鋁坩堝(由鎢絲加熱圈包圍); ? S型熱電偶插入坩堝中實現(xiàn)對蒸發(fā)物料的精確測溫; ? 最高溫度可達1100℃,長期使用溫度1000℃。 |
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射頻電源 | ? 科晶公司現(xiàn)有不同功率的射頻電源可供選擇,以滿足不同實驗條件的需求。 |
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真空系統(tǒng) | ? 采用TRP-12的雙旋真空泵; ? KF25卡箍及波紋管用于連接管式爐與真空泵; ? 真空度可達10-2Torr。 |
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供氣系統(tǒng) | ? 四通道質(zhì)子流量計控制系統(tǒng)可實現(xiàn)氣體流量的精確控制(精確度:±0.02%); ? 流量范圍:
? 電壓:208-240V, AC, 50/60Hz; ? 氣體進出口配件:6mm OD的聚四氟管或不銹鋼管; ? 不銹鋼針閥用于手動控制氣體進出; ? PLC觸摸屏可以簡便地進行氣體流量設(shè)置。 |
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產(chǎn)品尺寸和重量 | ? 爐體尺寸:1400 mm L ′600mmW′1250mm H; ? 混氣系統(tǒng)尺寸:600mmL′850mm W′700mm ? 凈重:90kg ? 運輸重量:136kg |
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認(rèn)證 | ? 如您另外付費,我們可以保證單臺儀器的TUV(UL61010)或CSA 認(rèn)證 |
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承諾 | ? 一年質(zhì)保期,終身維護(不包括爐管、硅膠密封圈和加熱元件) |
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國家專利 | 專利名稱:一種等離子增強旋轉(zhuǎn)爐裝置 專利號:ZL 2019 2 1533393.7 尊重原創(chuàng)、鄙視抄襲、侵權(quán)必究。 |
科晶應(yīng)用技術(shù)實驗室利用PECVD在不同功率(75W、150W、300W)條件下沉積Sb2Se3薄膜,實驗結(jié)果如下:
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb (%) | Se(%) | |||
未經(jīng)任何處理的樣品 | 40.01 | 59.99 | ||
等離子體處理 | 41.04 | 58.96 | ||
等離子體處理 min | 41.64 | 58.36 | ||
等離子體處理5 min | 41.86 | 58.14 |
小結(jié):
(1)等離子體能改變Sb2Se3薄膜的形貌,同時改變Sb2Se3的組成;
(2)隨著射頻電源功率的增加,Sb2Se3中的Se百分含量降低。
組別 | SEM結(jié)果 | 元素百分比 | ||
Sb (%) | Se(%) | |||
10W、條件下沉積Sb2Se3 | 40.01 | 59.99 | ||
75W、條件下沉積Sb2Se3 | 70.28 | 29.72 | ||
43.13 | 56.87 | |||
75W、且補充2粉末(10%質(zhì)量比Sb2Se3)沉積Sb2Se3 | Sn: 22.78 Sb: 25.77 | 51.44 |
小結(jié):
(1)低功率等離子體條件下可得到近原子比的Sb2Se3;
(2)高壓條件下可得到富Sb的Sb2Se3薄膜;
(3)添加Se會破壞PECVD沉積的Sb2Se3的原子比;
(4)當(dāng)SnSe2質(zhì)量比為10%時,可以得到Sb:Sn摩爾比接近于的薄膜,該方法適用于摻雜。
XRD結(jié)果
警示 | ? 爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02 MPa; ? 由于氣瓶內(nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全; ? 石英管的長時間使用溫度<1100℃; ? 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時,爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài); ? 射頻電源工作時,請勿觸碰。 |
應(yīng)用技術(shù)提示 | ? 通入爐內(nèi)氣體流量需小于200 sccm,以避免冷的大氣流對加熱石英管造成沖擊; ? 加熱時,不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥。若需要關(guān)閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02 MPa,需立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂、法蘭飛出等); ? 射頻電源在低氣壓、低功率條件下起輝。 |
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