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磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀
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射頻磁控濺射、蒸發(fā)鍍膜
型號(hào):
VTC-1RF-SPC
產(chǎn)品概述:
磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀VTC-1RF-SPC是一套可實(shí)現(xiàn)射頻磁控濺射和蒸發(fā)鍍膜功能的系統(tǒng),包含射頻電源,溫控型蒸發(fā)鍍膜模塊、真空系統(tǒng),水冷設(shè)備,磁控濺射靶頭,不銹鋼腔室等。
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產(chǎn)品名稱(chēng)型號(hào)

磁控濺射蒸發(fā)鍍膜儀 VTC-1RF-SPC

基本參數(shù)

· 電源:AC380V/50HZ

· 額定功率:4.2KW

不銹鋼腔室

· 內(nèi)徑φ250*高度360mm;

· 腔體前部帶有一個(gè)CF100的真空密封法蘭,密封法蘭上面安裝了一個(gè)石英觀察窗口;

· 腔體右側(cè)帶有一個(gè)從CF60法蘭接口,用于和分子泵進(jìn)行連接

· 腔室上部有一個(gè)LF250法蘭接口,法蘭端蓋上部固定有濺射靶頭和樣品臺(tái);

· 腔體左側(cè)帶有一個(gè)KF63法蘭接頭,用于連接蒸發(fā)模塊;

· 腔體右側(cè)帶有一個(gè)CF35法蘭接口,用于連接薄膜測(cè)厚儀;

· 腔體后部帶有兩個(gè)精密調(diào)節(jié)針閥,用于控制進(jìn)氣量,通過(guò)調(diào)節(jié)進(jìn)氣量的大小,實(shí)現(xiàn)腔體內(nèi)不同真空度的濺射;

· 腔體后部預(yù)留一個(gè)1/16英寸的卡套接口,用于客戶(hù)后期連接質(zhì)譜儀的檢測(cè)管道。

圖片1.png

·腔室真空度:

 冷態(tài)下,用VRD-48機(jī)械泵抽30分鐘,≤1Pa

 冷態(tài)下,用FF-160/700分子泵抽30分鐘,≤8*10-4Pa

濺射靶頭

磁控濺射靶頭固定在上法蘭端蓋上,通過(guò)焊接波紋管密封,方向朝上,和樣品臺(tái)形成45度夾角

· 標(biāo)配1英寸的磁控濺射靶頭,內(nèi)部嵌有冷卻水管,可以通水冷實(shí)現(xiàn)對(duì)磁鋼和靶材的冷卻,從而能夠可以長(zhǎng)時(shí)間進(jìn)行濺射;

· 配有一手動(dòng)操作的擋板,當(dāng)?shù)谝淮螢R射清除靶材表面的氧化層和污物層,擋住基片,防止污染基片;

· 樣品臺(tái)和靶頭之間的距離可以調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍:60-100mm。

· 磁控濺射靶頭和法蘭端蓋可以電動(dòng)升降

 (可選配2英寸磁控濺射靶頭)

樣品臺(tái)

樣品臺(tái)固定在腔體上法蘭端蓋上,方向垂直朝下

·樣品臺(tái)通過(guò)磁流體密封,可實(shí)現(xiàn)樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)

·樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)速度0.5-5r/min可調(diào)

·樣品臺(tái)尺寸:φ100mm,通過(guò)螺旋壓蓋固定樣品,可選配≤φ100mm的各種尺寸掩膜版,以實(shí)現(xiàn)對(duì)不同樣品尺寸的鍍膜制備

·樣品臺(tái)最高溫度可達(dá)700度(≤30min),長(zhǎng)期使用溫度500度,樣品臺(tái)加熱系統(tǒng)通過(guò)一程序溫控系統(tǒng)進(jìn)行控制,可實(shí)現(xiàn)30段程序控溫,通過(guò)PID調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)精確控溫,控溫精度±3℃。

·樣品臺(tái)和法蘭端蓋可以電動(dòng)升降

圖片2.png

蒸發(fā)模塊

· 從腔室右端采用KF50快接法蘭與不銹鋼腔體進(jìn)行連接,保證腔室的真空度 

· 采用鎢絲作為發(fā)熱源,并且配有專(zhuān)用的氧化鋁坩堝,熱電偶安裝在坩堝底部,以便于溫度測(cè)量和控制

· 標(biāo)配采用S型熱電偶,蒸發(fā)工作溫度為200-1300度

· 蒸發(fā)模塊加熱系統(tǒng)通過(guò)一程序溫控系統(tǒng)進(jìn)行控制,可實(shí)現(xiàn)30段程序控溫,通過(guò)PID調(diào)節(jié)實(shí)現(xiàn)精確控溫,控溫精度±3℃。

· 蒸發(fā)模塊和樣品臺(tái)之間的距離為:60mm

· 蒸發(fā)模塊坩堝尺寸:外徑φ19.6*內(nèi)徑φ15.4*高度24mm,可選配其它材質(zhì)坩堝,如不銹鋼坩堝等。

圖片3.png  圖片4.png


圖片5.png     圖片6.png

控制面板

控制面板采用一個(gè)7寸觸摸屏實(shí)現(xiàn)集成控制

· 可在觸摸屏上操作真空系統(tǒng),顯示真空度

· 可在觸摸屏上進(jìn)行樣品臺(tái)加熱溫控程序的設(shè)定和蒸發(fā)模塊溫控系統(tǒng)的設(shè)定

· 可控制樣品臺(tái)的旋轉(zhuǎn)并設(shè)置樣品臺(tái)旋轉(zhuǎn)速度

· 控制電動(dòng)插板閥的啟動(dòng)和關(guān)閉

圖片7.png

射頻電源

· 輸入電源:220V

· 輸出功率:0-300W

· 輸出頻率:13.56 MHZ

· 冷卻方式:設(shè)備內(nèi)部的冷卻方式為風(fēng)冷     

· 尺寸:132(長(zhǎng))*442(寬)*405mm(高)

(可根據(jù)濺射靶材不同選配直流電源)

分子泵

· 分子泵型號(hào):FF-160/700

· 抽氣速率:700L/S

· 極限壓強(qiáng):6*10-7Pa(不帶負(fù)載)

· 啟動(dòng)時(shí)間:<4min

· 額定轉(zhuǎn)速:36000 R/min

· 冷卻方式:風(fēng)冷加水冷

· 抽氣口接口尺寸:CF160

· 帶電動(dòng)插板閥:可在觸摸屏中控制電動(dòng)閥的啟動(dòng)和關(guān)閉

圖片8.png

分子泵控制器

· 型號(hào):TCP-II

· 電壓:AC220V/50HZ

· 輸出功率:750W

· 加速時(shí)間:5min

· 輸出頻率:0-1300HZ

復(fù)合真空計(jì)

· 型號(hào):ZDF-III

· 工作電壓:AC220V 50/60HZ

· 電阻規(guī)阻值:約85歐

· 自動(dòng)保護(hù)(電離)>10Pa

· 電阻規(guī)測(cè)量范圍:105-10-1Pa

· 電離規(guī)測(cè)量范圍:100-10-5Pa

前級(jí)機(jī)械泵(選配)

· 抽真空接口為KF40接口

· 真空泵:VRD-48,抽速48M3/H(13.3L/S)

· 電機(jī)功率:1500W

· 電機(jī)電源:AC380V/50HZ

· 極限真空:4*10-2Pa(不帶負(fù)載) 

· 真空計(jì):ZDZ-52T V01型電阻真空計(jì)

圖片10.png


水冷設(shè)備(選配)

· 型號(hào):KJ-5000

· 工作電流:1.4-2.1A

· 制冷量:2361Btu/h

· 尺寸:55×28×43cm(長(zhǎng)×寬×高)

膜厚檢測(cè)儀(選配)

· 一個(gè)精密的石英振動(dòng)薄膜測(cè)厚儀安裝在儀器上,可實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)薄膜的厚度,分別率為0.10 ?

· LED顯示屏顯示,同時(shí)也輸入所制作薄膜的相關(guān)數(shù)據(jù)

圖片11.png  圖片12.png

外形尺寸

長(zhǎng)840*寬750*高1900mm

圖片13.png

重量

310KG

質(zhì)保

1年(不包含爐管、O型圈、加熱元件等損耗件)

    

  注意事項(xiàng)    

氣瓶上必須安裝減壓閥,為了確保安全,建議使用壓力低于0.02MPa,建議在本公司選購(gòu)減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全;

對(duì)于樣品加熱的實(shí)驗(yàn),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開(kāi)出氣閥,以防意外發(fā)生(如腔室破裂,法蘭飛出等)

我們不建議客戶(hù)使用易燃易爆和有毒的氣體,如果客戶(hù)工藝原因確實(shí)需要使用易燃易爆和有毒氣體,請(qǐng)客戶(hù)自行做好相關(guān)防護(hù)和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關(guān)問(wèn)題,本公司概不負(fù)責(zé)。


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