設(shè)備名稱 | 小型粉末PVD濺射儀(配直流磁控濺射,樣平臺(tái)可振動(dòng))- VTC-16-PW |
主要特點(diǎn) | ? 可對(duì)粉體材料進(jìn)行表面包覆:采用磁控濺射,濺射時(shí)粉體材料在振動(dòng)樣品臺(tái)上翻滾,達(dá)到粉體表面均勻包覆; ? 設(shè)備小巧可在手套箱內(nèi)使用(需訂貨時(shí)說(shuō)明另配KF40饋通),可處理對(duì)氧敏感性材料 ? 可抽真空、通氣氛 ? PLC集成的控制系統(tǒng) ? 標(biāo)配石英腔室、等離子磁控濺射靶頭,靶材濺射擋板 ? 具有水冷系統(tǒng),用于冷卻濺射頭 ? 可搭配薄膜測(cè)厚儀一起使用(選配) |
相關(guān)視頻 | 操作視頻 |
輸入電源 | 220V,50/60HZ |
輸入功率 | < 1000W |
輸出電壓 | DC 700V |
濺射電流 | 0-150mA |
濺射時(shí)間 | < 15min |
石英腔室尺寸 | 外徑166mm*內(nèi)徑150mm*高260mm |
外形尺寸和重量 | 660mm*370mm*830mm(長(zhǎng)*寬*高),重量:33Kg(不含泵) |
震動(dòng)樣品臺(tái) | 震動(dòng)樣品臺(tái)安裝在真空腔體底部 ? 尺寸:直徑Φ2”(50.8mm) ? 震動(dòng)電機(jī)轉(zhuǎn)速:400-2500r/min可調(diào) ? 震動(dòng)電機(jī)每次工作時(shí)間 ≤15min(<2000r/min),<10min(2000-2500r/min) ? 樣品臺(tái)每次濺射最大粉末量:2g(氧化鋁粉) ? 粉末顆粒度范圍:在1μm和1mm之間 |
靶材 | ? 適合濺射金、銀、鋁、銅、鈦等金屬,對(duì)樣品的損傷和溫升比較少 ? 靶材直徑:2英寸 ? 靶材和樣品臺(tái)之間的距離50-80mm可調(diào) |
靶材濺射擋板 | 一個(gè)手動(dòng)操作擋板,用于保護(hù)靶材 ? 尺寸:直徑50mm ? 可調(diào)節(jié)位置 |
濺射頭 | 2英寸角度可調(diào)節(jié)濺射頭,帶有水冷夾層 濺射頭與樣品臺(tái)距離可調(diào)節(jié),調(diào)節(jié)范圍為60-100mm 設(shè)備中配有一循環(huán)水冷機(jī)(流量16L/min),用于冷卻濺射頭 |
控制面板 | 6英寸控制面板,可顯示和設(shè)置所有參數(shù),如真空和電流 |
真空系統(tǒng) | ? 抽真空接口為KF25接口 ? 進(jìn)氣口為Φ6.35mm的不銹鋼.卡套接頭,通過(guò)聚四氟管可與氣瓶連接 ? 含一個(gè)控制進(jìn)氣的針閥和一個(gè)放氣閥 ? 極限真空度: 機(jī)械泵< 2 pa 分子泵< 5.0*10^-3 pa ? 設(shè)備標(biāo)配一個(gè)皮拉尼真空計(jì),測(cè)量范圍從5*10-4毫巴——1000毫巴
可選配更高精度的數(shù)顯防腐真空計(jì) PCG-555 |
水冷系統(tǒng) | 設(shè)備需要通入冷卻水,磁控靶頭及薄膜測(cè)厚儀探頭均需水冷 |
薄膜測(cè)厚儀 (選配) | ? 電源:DC5V,最大電流400mA ? 最高精度:±0.5% ? 測(cè)試速度:100ms-1S/次 可設(shè)置 ? 最大測(cè)量厚度:100000 ? ? 可與計(jì)算機(jī)連接 |
質(zhì)量認(rèn)證 | ? 此產(chǎn)品已通過(guò)CE認(rèn)證 證書編號(hào):M.2021.206.C67994 若客戶出認(rèn)證費(fèi)用,本公司保證單臺(tái)設(shè)備通過(guò)德國(guó)TUV認(rèn)證或CAS認(rèn)證。 |
國(guó)家專利 | 專利名稱:一種粉末磁控濺射儀 專利號(hào):ZL 2019 2 1911199.8 尊重原創(chuàng)、鄙視抄襲、侵權(quán)必究。 |
樣品:SiC粉末、鎳靶
實(shí)驗(yàn)圖片:
濺射中 濺射后的石英玻璃
濺射后的粉末 濺射前后粉末對(duì)比
檢測(cè)圖片:
濺射后的SiC粉末呈金屬色,在電鏡下可觀測(cè)到,大部分粉末表面均勻包覆一層膜狀物質(zhì).
特別聲明:
1. 以上所有實(shí)驗(yàn)僅為初步探究,僅供參考。由于我們水平有限,錯(cuò)誤疏漏之處歡迎指出,我們非常期待您的建議。
2. 歡迎您提出其他實(shí)驗(yàn)思路,我們來(lái)驗(yàn)證。
3. 以上實(shí)驗(yàn)案例及數(shù)據(jù)只針對(duì)科晶設(shè)備,不具有普遍性。
4. 因?yàn)樯婕氨C軉?wèn)題,以上數(shù)據(jù)僅為部分?jǐn)?shù)據(jù),歡迎老師與我們聯(lián)系,我們非常期待和您共同探討設(shè)備的應(yīng)用技術(shù)。
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