- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
真空旋轉(zhuǎn)涂層機(jī)
- 型號(hào):
- VTC-200
- 產(chǎn)品概述:
- VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)具有操作簡(jiǎn)單、清理方便,體積小巧等優(yōu)點(diǎn),主要應(yīng)用于各大專院校、科研院所的實(shí)驗(yàn)室中進(jìn)行薄膜的生成過程。VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)工作時(shí)利用真空盤吸附的方式將樣品固定在載樣盤上,該設(shè)備利用兩段程序控制速度。首先開動(dòng)涂膜機(jī)將設(shè)備轉(zhuǎn)數(shù)設(shè)置在一定的轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi),在此轉(zhuǎn)數(shù)范圍內(nèi)設(shè)置一定的注膠時(shí)間對(duì)樣品進(jìn)行注膠,注膠結(jié)束后涂膜機(jī)會(huì)提升轉(zhuǎn)數(shù)至第二段的極限轉(zhuǎn)數(shù)進(jìn)行勻膠,在勻膠之前要對(duì)勻膠時(shí)間進(jìn)行設(shè)置,當(dāng)勻膠時(shí)間結(jié)束后機(jī)器自動(dòng)停止運(yùn)轉(zhuǎn),涂膜的整個(gè)過程結(jié)束VTC-200真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)利用高速旋轉(zhuǎn)使粘滯系數(shù)較大的膠體、溶液等材料均勻地涂覆在樣件表面。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
設(shè)備名稱
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真空旋轉(zhuǎn)涂膜機(jī)—VTC-200 (2019.12.27—科晶實(shí)驗(yàn)室審核) |
產(chǎn)品提示
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1、多種配件可選提示 2、特殊設(shè)備尺寸設(shè)備 3、科晶實(shí)驗(yàn)室邀請(qǐng)?zhí)崾?/strong> 4、配件妥善保管提示 |
設(shè)備特點(diǎn)
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1、二段程序控制速度。 2、真空吸附方式固定樣件,操作簡(jiǎn)便。 3、采用鑄鋁結(jié)構(gòu),運(yùn)行穩(wěn)定、噪音低。 |
相關(guān)視頻
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操作視頻 |
基本參數(shù)
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1、AC220/110V 50/60Hz 2、功率:200W 3、時(shí)間設(shè)置范圍:1s-60s 4、轉(zhuǎn)速:500rpm-6000rpm 5、真空泵流速:>60L/min 6、可設(shè)置兩步涂膜程序,轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性為±1%,使涂膜更加均勻。 SPD1轉(zhuǎn)速:500-6000 rpm有效。 T1 時(shí)間:1--60s有效。 SPD2轉(zhuǎn)速:500-6000 rpm有效。 T2 時(shí)間:1--60s有效。 7、適用于尺寸φ153mm,φ203.5mm樣件及其他材料等涂膜。 8、使用環(huán)境溫度5-40℃,相對(duì)濕度不大于85%RH,設(shè)備周圍無強(qiáng)烈震源和腐蝕氣體影響。
更多參數(shù)請(qǐng)聯(lián)系科晶銷售部 |
產(chǎn)品規(guī)格
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外形尺寸:350mm(長(zhǎng))×500mm(寬)×400mm(高) 重量:30kg |
安裝條件
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本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有進(jìn)出水口。 2、電:AC220V 50Hz,必須有良好接地 3、氣:不需要 4、工作臺(tái):尺寸600mm×600mm×700mm,承重50kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要 |
應(yīng)用技術(shù)提示 |
? 為了獲得較好的制膜質(zhì)量,可以在制膜前對(duì)襯底進(jìn)行等離子清洗; ? 可選加熱部分:上蓋內(nèi)部增加紅外燈管加熱,采用K型熱偶測(cè)溫,數(shù)字溫控器控溫,最高120℃,可使得樣品涂覆后原位烘干,用于薄膜太陽(yáng)能電池等研究。
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標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 真空吸盤Φ153mm | 1個(gè) |
2 | 滴液器 | 1個(gè) |
3 | 無油真空泵 | 1臺(tái) |
可選配件 | ? 過濾器(真空泵用) ? 進(jìn)口移液器 ? 國(guó)產(chǎn)移液槍
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