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Si+SiO2+Si3N4薄膜
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實(shí)驗(yàn)案例警示/應(yīng)用提示配件詳情
| 產(chǎn)品名稱
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Si+SiO2+Si3N4薄膜(進(jìn)口料）
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| 常規(guī)尺寸
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dia 50.8±0.5 mm x 0.250 ±0.025 mm
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| 備注
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可按照客戶要求鍍膜50-1000nm
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| 標(biāo)準(zhǔn)包裝
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1000級超凈室100級超凈袋真空包裝或單片盒裝
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| 技術(shù)參數(shù)
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薄膜厚度： | 雙面鍍300nmSiO250nmSi3N4 | 研究級別： | about 80 % useful area | 生長方法： | 在1000℃干氧法 | 折射率： | - 1.455 | Si參數(shù)： |
| 拋光： | 雙面拋光 |
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