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Si鍍Ni薄膜
- 關(guān)鍵字：
- 進(jìn)口Nickel <111> Film (100nm) coated Silicon Wafer
- 產(chǎn)品概述：
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| 產(chǎn)品名稱
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Si鍍Ni薄膜?(進(jìn)口Nickel??Film?(100nm)?coated?Silicon?Wafer)
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| 技術(shù)參數(shù)
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Si基片參數(shù)： | P型B；<100±0.5°； dia 4" +/- 0.5 mm x 0.525 +/- 0.025 mm；單拋 | 電阻率： | 1-20 ohm-cm | Ni薄膜參數(shù)： | 100nm | Ni薄膜結(jié)晶（Film Crystallinity）： | <111> - oriented polycrystals | 表面粗糙度： | N/A |
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| 產(chǎn)品尺寸
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dia4 inch or 10x10mm
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| 標(biāo)準(zhǔn)包裝
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1000級超凈室100級超凈袋真空包裝或單片盒
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