- 加熱爐設備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設備
- 壓片設備
- 輥壓設備
- 切割設備
- 磨拋設備
- 清洗設備
- 電池研發(fā)設備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實驗室設備
二維材料MoSe2
- 產(chǎn)品概述:
- 應用于半導體電子器件、光學器件等研究。
免責聲明:
本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網(wǎng)站不可預知的BUG可能會造成數(shù)據(jù)與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數(shù)有異議,或者想了解產(chǎn)品詳細信息及更多參數(shù),請與本公司銷售人員聯(lián)系。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,請勿將此參數(shù)用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
如果您需要下載產(chǎn)品的電子版技術(shù)文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產(chǎn)品僅針對大陸地區(qū)客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。
技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
產(chǎn)品名稱
|
MoSe2 二硒化鉬 |
技術(shù)參數(shù)
|
類型: | CVT法人工合成 | 純度: | >99.99% | 外觀: | 銀灰色 | 電導: | 半導體 | 帶隙: | 單層MoSe2直接帶隙 1.55 eV | 晶體結(jié)構(gòu): | 六方晶系 | 晶體常數(shù): | a=b=3.29, c=12.89 ,α=β=90° ,γ=120° | 生長方法: | 化學氣相傳輸 | 常規(guī)尺寸: | ~ 3x3x0.1 mm 面積≥10平方毫米 |
|
標準包裝
|
1000級超凈室,100級超凈袋或單片盒封裝 |
免責聲明:
本站產(chǎn)品介紹內(nèi)容(包括產(chǎn)品圖片、產(chǎn)品描述、技術(shù)參數(shù)等)僅用于宣傳用途,僅供參考。由于更新不及時和網(wǎng)站不可預知的BUG可能會造成數(shù)據(jù)與實物的偏差,請勿復制或者截圖。如果您對參數(shù)有異議,或者想了解產(chǎn)品詳細信息及更多參數(shù),請與本公司銷售人員聯(lián)系。本站提供的信息不構(gòu)成任何要約或承諾,請勿將此參數(shù)用于招標文件或者合同,科晶公司會不定期完善和修改網(wǎng)站任何信息,恕不另行通知,請您諒解。
如果您需要下載產(chǎn)品的電子版技術(shù)文檔,說明書(在線閱覽),裝箱單,與售后安裝條件等文件,請點擊上方的附件下載模塊中選取。商城產(chǎn)品僅針對大陸地區(qū)客戶,購買前請與工作人員溝通,以免給您帶來不便。