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Ge晶體
- 產(chǎn)品概述：
- Ge?主要用途有：制作半導體器件、紅外光學器件及太陽能電池襯底等材料。
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
| 產(chǎn)品名稱
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Ge晶體基片 |
| 技術(shù)參數(shù)
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晶體結(jié)構(gòu)： | 立方晶系 | 晶格常數(shù)： | 5.6754 ? | 密度： | 5.323 g/cm3 | 熔點： | 937.4 ℃ | 介電常數(shù)： | 16.2 | 熱導率（w/m·k）： | 60.2 | 摻雜物質(zhì)： | 不摻雜；摻Sb；摻In或Ga； | 類型： | N型 和 P型 | 電阻率 W·cm： | >35 0.05 0.05-0.1 | EPD: | < 4x103/cm2 < 4x103/cm2 < 4x103/cm2 | 生長方法： | 直拉法 |
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| 產(chǎn)品規(guī)格
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常規(guī)晶向： | <100>、<110>、<111> | 晶向公差： | ±0.5° | 常規(guī)尺寸： | 10x10x0.5mm，10x5x0.5mm,dia2",dia3" | 拋光情況： | 單拋、雙拋 | 表面粗糙度： | < 5A | 注：尺寸及方向可按照客戶要求定做。 |
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| 晶體缺陷
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人工生長單晶有可能存在晶體內(nèi)部缺陷。 |
| 標準包裝
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1000級超凈室，100級超凈袋或單片盒封裝 |
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