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AL2O3+GaN薄膜
關(guān)鍵字:
P型摻Mg, R:3-5Ω-cm
產(chǎn)品概述:
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技術(shù)參數(shù)產(chǎn)品視頻實驗案例警示/應用提示配件詳情
產(chǎn)品名稱

Al2O3+GaN外延薄膜(Mg-doped?P-type?GaN?Epitaxial?Template?on?sapphire


技術(shù)參數(shù)

Al2O3參數(shù):

c-Axis (0001) off angle 0.2O±0.1 @ M-plane,dia50.8 mm ± 0.25 mm,單拋

GaN厚度:

3.0 um +/- 10%

電阻率:

3- 5 Ω-cm

載流子濃度:

1x10^17 ~3x10^18/cm3

空穴遷移率:

20cm-2/V

RMS

 <1nm

FWHM of RC for(002)

~~350 arcsec

FWHM of RC for(102)

~~450 arcse


標準包裝

1000級超凈室100級超凈袋真空包裝和單片盒裝

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