- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
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- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
Si+BN薄膜
- 產(chǎn)品概述:
- Boron nitride is a chemical compound with chemical formula BN, consisting of equal numbers of boron and nitrogen atoms. BN is isoelectronic to a similarly structured carbon lattice and thus exists in various crystalline forms. The Cubic (sphalerite structure) bariety analogous to diamond is called c-BN. Its hardness is inferior only to diamond, but its thermal and chemical stability is superior. Low-pressure deposition of thin films of boron nitride are grown on Si (100) wafers for this product.
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Si+BN薄膜
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· BN Film coated by sputtering method · BN Thickness: 24 nm +/- 10%
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Silicon Wafer Specifications
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· Conductive type: Si n- type · Resistivity: 1- 10 ohm-cm · Size: 4" diameter +/- 0.5 mm x 0.525 +/- 0.025 mmth · Orientation: (100) +/- 0.5o · Polish: One sides polished · Surface roughness: Prime · Packing: Vacuum packed on a 4" single wafer carrier box
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